Titaaninen ruiskutuskohde

 

Titanium Sputtering Target on kriittinen pinnoitemateriaali, jota käytetään PVD-prosesseissa (Physical Vapor Deposition) puolijohdelaitteissa, litteissä näytöissä, optisissa pinnoitteissa, tallennusvälineissä ja koristeellisissa pintakäsittelyissä. Kohteen laatu vaikuttaa suoraan kalvon puhtauteen, kerrostumisen stabiilisuuteen, hiukkasten muodostumiseen ja lopullisen pinnoitteen suorituskykyyn. China Super Tech Co., Ltd. valmistaa erittäin-puhtaita titaanikohteita käyttämällä tyhjiösulatusta, tarkkuustaontaa ja kontrolloituja työstöprosesseja varmistaakseen tasaisen mikrorakenteen, tasaisen rakeiden jakautumisen ja vakaan ruiskutuskäyttäytymisen, mikä auttaa asiakkaita parantamaan pinnoitteen laatua, parantamaan kohteen käyttöä ja vähentämään tuotannon seisokkeja.

 

 

1. Korkea puhtaus takaa vakaan ohuen kalvon suorituskyvyn
Tarjoamme jopa 99,995 %:n puhtausasteen, joka on valmistettu huolella valituista titaaniraaka-aineista ja jalostettu tyhjiösulatusprosesseilla. Alhaisempi epäpuhtauspitoisuus minimoi kontaminaation pinnoituksen aikana, mikä on erityisen tärkeää puolijohde-, optisissa ja elektronisissa sovelluksissa, jotka vaativat korkeaa kalvon eheyttä.

2. Yhdenmukainen jyvärakenne johdonmukaiseen ruiskutukseen
Monivaiheisen-taontamisen ja lämpö-mekaanisen käsittelyn ansiosta sisäisestä mikrorakenteesta tulee homogeenisempi kuin tavanomaisista valumateriaaleista. Tasainen rakeiden jakautuminen vähentää paikallista eroosiota, parantaa ruiskutuksen tasaisuutta ja auttaa säilyttämään vakaat laskeumanopeudet koko tavoiteiän ajan.

3. Alhainen hiukkastuotanto
Pintavirheet ja mikrorakenteen epäjohdonmukaisuudet ovat yleisiä syitä hiukkasten muodostumiseen sputteroinnin aikana. Tarkkuustyöstö- ja pintakäsittelyprosessimme vähentävät virhetiheyttä, mikä auttaa asiakkaita vähentämään hiukkaskontaminaatiota ja parantamaan tuotannon saantoa.

4. Vahva liimausluotettavuus
Sidoskohteissa käytämme hallittuja liimaustekniikoita ja tiukkoja rajapintojen tarkastusmenettelyjä saavuttaaksemme erinomaisen lämmönjohtavuuden ja lämmönpoiston. Tämä auttaa vähentämään lämpörasitusta suuritehoisten-sputterointitoimintojen aikana ja pidentää tavoiteltua käyttöikää.

5. Korkea materiaalin käyttö
Optimoitu mittatarkkuus ja tasaiset eroosio-ominaisuudet mahdollistavat tehokkaamman tavoitekulutuksen ennen vaihtoa, mikä vähentää pinnoituskustannuksia ja parantaa laitteiden käyttöaikaa.

 

 

1. Semiconductor Manufacturing
Titaanikalvoja käytetään laajalti tartuntakerroksina ja sulkukerroksina integroiduissa piireissä. Korkean-puhtauden kohteet auttavat vähentämään epäpuhtauksiin- liittyviä vikoja, kun taas tasainen ruiskutuskäyttäytyminen tukee tarkkaa kalvonpaksuuden hallintaa, jota tarvitaan edistyneessä puolijohteiden valmistuksessa.

2.Optiset pinnoitteet
Titaani{0}}pohjaisia ​​pinnoitteita käytetään linsseissä, suodattimissa ja optisissa komponenteissa. Vakaa kohdekoostumus edistää johdonmukaisia ​​optisia ominaisuuksia, mukaan lukien heijastavuus, läpäisy ja taitekertoimen säätö suurissa tuotantoerissä.

3. Litteän näytön tuotanto
Näytönvalmistajat vaativat tasalaatuisia pinnoitteita suurille alustoalueille. Homogeeniset kohdemikrorakenteet tukevat tasaista kalvon kerrostumista, mikä auttaa parantamaan näytön yhtenäisyyttä ja vähentämään pinnoitteiden vaihtelua paneelien välillä.

4. Tiedon tallennusvälineet
Magneettiset tallennuslaitteet ovat riippuvaisia ​​tarkasti kontrolloiduista ohut{0}kalvorakenteista. Korkea-tiheys ja matala-vikakohteet parantavat elokuvan laatua ja tallennustehoa.

5. Koriste- ja toiminnalliset pinnoitteet
Titaanipinnoitteet tarjoavat kulutuskestävyyden, korroosionkestävyyden ja kauniin pintakäsittelyn. Tasainen sputterointikyky varmistaa tasaisen värin ulkonäön ja pinnoitteen paksuuden kuluttaja- ja teollisuustuotteille.

 

 

1. Mukautetut puhtaustasot
China Super Tech Co., Ltd. voi toimittaa erilaisia ​​puhtausasteita pinnoitusprosessin vaatimusten mukaisesti, tasapainottaa suorituskykytavoitteita ja projektibudjetteja.

2. Joustavat mitat ja muodot
Saatavana pyöreänä, suorakaiteen muotoisena, pyörivänä, tasomaisena ja asiakkaan suunnittelemana{0}}geometriana. Tarkkuustyöstö mahdollistaa tiukat mittatoleranssit yhteensopivuuden kannalta tärkeimpien sputterointijärjestelmien kanssa.

3. Liima- ja taustalevyratkaisut
Tarjoamme täydellisiä liimattuja kohdekokoonpanoja, joissa on räätälöityjä taustalevymateriaaleja ja -kokoonpanoja, jotka vastaavat erityisiä laitevaatimuksia.

4. Controlled Grain Structure Engineering
Toisin kuin toimittajat, jotka keskittyvät vain kemiaan, optimoimme takomisen pelkistyssuhteet ja lämpökäsittelyparametrit saavuttaaksemme kontrolloidut raerakenteet, jotka parantavat ruiskutuksen tasaisuutta ja tavoitekäyttöä.

5. Täydellinen laatudokumentaatio
Saatavilla oleva dokumentaatio sisältää kemiallisen koostumuksen raportteja, mittatarkastuspöytäkirjoja, ultraäänitestausraportteja, materiaalisertifikaatteja ja räätälöityjä laatuvaatimuksia puolijohde- ja elektroniikkateollisuudelle.

 

 

Parametri	Erittely
Materiaali	Puhdasta titaania
Puhtaus	99.5% – 99.995%
Valmistusprosessi	Tyhjiösulatus + taonta + tarkkuustyöstö
Muotovaihtoehdot	Pyöreä, suorakaiteen muotoinen, pyörivä, mukautettu
Tiheys	Suurempi tai yhtä suuri kuin 99 % teoreettisesta tiheydestä
Viljan rakenne	Hieno ja yhtenäinen
Pintakäsittely	Tarkkuuskoneistettu
Liimausvaihtoehto	Indiumin liimaus / elastomeeriliimaus / räätälöity
Halkaisija-alue	Jopa 500 mm
Pituusalue	Mukautettu
Paksuusalue	Mukautettu
Mitattoleranssi	Asiakkaan vaatimusten mukaan
Tarkastusmenetelmät	Kemiallinen analyysi, UT-testaus, mittatarkastus
Vaatimustenmukaisuus	ASTM B265 ja asiakkaan tekniset tiedot

 

 

 

Suositut Tagit: titaanisputterointikohde, Kiina titaanisputterointikohteen valmistajat, toimittajat, tehdas